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LECO O836Si硅中氧分析仪,满足硅产业和高纯度铜中对于氧含量分析高灵敏度和高精度的要求

简要描述:O836Si旨在满足硅产业对于分析的高灵敏度和高精度的要求

基础信息

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更新时间

2025-11-20

浏览次数

172
详细介绍

O836Si旨在满足硅产业对于分析的高灵敏度和高精度的要求。通过力可固态红外检测系统超高灵敏度与我们全新设计的进样系统和可编程脉冲炉相结合,O836Si提供准确和精确的氧含量的结果,比如硅片材料中氧的分析结果。

O836Si 260

LECO O836Si硅片专用氧元素分析仪

O836Si是硅片专用氧分析仪,专为满足硅行业对低浓度、高精度氧分析的需求而开发。高精度非色散红外检测器、的样品加载系统和可编程脉冲炉相结合,可实现准确和高精度的氧气分析。

  • 非色散固态红外检测器,高精度,高分辨率
  • 可编程通过功率及电流控制的脉冲电极炉
  • 分析精度及准确度精确至0.01ppm级别
  • 低空白值,可翻转的样品加载入口,对于柱状硅样品也能保持测试结果的一致性
  • 峰值查找功能可以方便地显示表面和基体氧化物峰值
  • 仪器全新的气路设计需要更少的维修
  • 氧含量输入采用ppma和ppmw格式
  • 适用于硅工业(硅晶片)
  • 金属工业
  • 电子工业(高纯铜)
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