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当前位置:首页  /  产品中心  /  成分分析仪器  /  ICP-OES光谱仪  /  Plasma 3000型钢研纳克 NCS ICP光谱仪

钢研纳克 NCS ICP光谱仪

简要描述:NCS Plasma3000双向观测全谱ICP-OES,覆盖165-950nm宽光谱,检出限达亚ppb级。采用垂直等离子体架构与交叉色散系统,抗干扰强,适用于多行业痕量元素精准分析。

基础信息

产品型号

Plasma 3000型

厂商性质

经销商

更新时间

2026-08-04

浏览次数

241
详细介绍
品牌钢研纳克/NCS价格区间70万-100万
仪器种类全谱直读应用领域综合

NCS Plasma 3000 双向观测全谱 ICP-OES

产品介绍

钢研纳克拥有 35 年电感耦合等离子体发射光谱仪方法开发经验。

数十项 ICP-OES 检测标准的起草单位。

电感耦合等离子体发射光谱仪产品标准 GB/T36244-2018 起草单位。

Plasma 3000 作为一款高性能的非顺序扫描型多元素分析仪器,高光通量和紫外传输效率,搭配快速进样装置,大幅缩短分析时间;165nm~950nm 宽光谱范围,轻松应对低含量痕量分析苛刻场景,适用于冶金、地质、材料、环境、食品、医药、石油、化工、生物、水质等全行业元素定量分析。

可为量产型生产企业、前沿科研实验室,提供专属定制化专业整体解决方案。

技术参数与优势

分析性能

检出限:亚 ppb~ppb 级

短期稳定性:RSD≤0.5%(500 x LOD)

长期稳定性:RSD≤1.0%(500 x LOD)

射频参数:震荡频率 27.12MHz,功率稳定性≤0.1%,频率稳定性≤0.01%

输出功率:500W~1600W 连续可调

气路控制:三路气体均配高精度质量流量计,控制精度 0.01L/min

仪器规格

整机尺寸:106cm×67cm×75cm(宽 × 深 × 高)

整机重量:180kg

光学系统

分析谱线范围:165nm~950nm

光学分辨率:0.007nm@200nm

光室温控:38℃±0.1℃,支持参数自定义设置

CCD 检测器:像素 1024×1024,单像素面积 24μm×24μm

工作环境要求

环境湿度:20~80% RH

氩气纯度:≥99.995%

排风要求:排风量≥400m³/ 小时 或 风速>5m/s,支持风量风速调节

供电电源:220V±10% 单相,25A,50~60Hz

仪器特点

垂直等离子体架构设计,可适配各类复杂基体样品,无需高倍稀释即可实现超低检出限,抗基体干扰能力好

固定光栅 + 氟化钙棱镜交叉色散结构,紫外波段透过率优异,满足汞、锑、铅等紫外敏感元素的超痕量合规检测

支持轴向、径向、双向多种观测模式,搭配快速进样系统,可选近 70000 条专属分析谱线,兼顾高低含量样品检测

配套智能化专业分析软件,支持深度功能定制,精准匹配客户个性化检测需求

等离子体观测:双向观测设计

矩管拆装灵活,搭载自动精准定位功能,维护便捷、稳定性更强



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