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Versaprobe II厂商性质
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PHI 5000 Versaprobe II X射线光电子能谱仪是材料科学和发展的领域中Z广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。
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EscaLab 250Xi厂商性质
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6424产品描述
赛默飞 EscaLab 250Xi X射线光电子能谱仪是一台多功能高性能的表面分析仪器，它可以用于研究各种固体材料样品表面（1-10nm厚度）的元素种类、化学价态以及相对含量。结合离子刻蚀技术还可以获得元素及化学态深度分布信息；通过成像技术可以获得元素及化学态的面分布信息；利用微聚焦X射线源或电子束可以获得微区表面信息。在金属、玻璃、高分子、半导体、纳米材料、生物材料以及催化等领域有广泛应用。
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Quantera II厂商性质
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3133产品描述
PHI Quantera II X射线光电子能谱仪是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研发的XPS分析仪器，其革命性超卓技术包括有：一个*微集中扫描的X射线来源，的双光束的电荷中和技术，在极低电压下仍可保持高性能的离子束源以进行XPS的深度分析
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Nexsa厂商性质
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2552产品描述
赛默飞 Nexsa™ X 射线光电子能谱仪 （XPS） 系统能提供全自动、高通量的多技术分析，并可保持研究级结果的高质量水平。ISS、UPS、REELS、拉曼等多种分析技术集于一身，用户因此能够进行真正意义上的相关性分析，从而为微电子、超薄膜、纳米技术开发以及许多其他应用进一步取得进展释放潜能。
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K-Alpha+厂商性质
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赛默飞 K-Alpha+ X射线光电子能谱仪系统是一款*集成的X射线光电子能谱。获奖的版K-Alpha平台特征光谱性能显著提高，提供更高计数率和更快分析时间，改善化学探测能力。
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